半導体製造装置等に使われるマスフローコントローラーの性能評価方法として、SEMIスタンダードで試験方法が規定されています。
(SEMI E66-0611)
本資料では、性能評価に使用可能な粒子計測器を紹介いたします。
測定イメージ(テストフロー>サンプルフロー)
試験の流れ
①マスフローコントローラーで窒素、アルゴンの流量を制御
②試験マスフローコントローラー
③等速サンプリング
④試験MFCからの発塵を計測
一般的なパーティクルカウンター(LPC)の最小検出粒子径は0.1~0.3 μmですが、近年より小さいパーティクルの計測が求められて来ております。
CPC(CNC)というカウンターであれば、ナノレベルから計測可能です。
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