概要
最先端の半導体製造プロセスでは、「シングルナノ」がキーワードとなっています。
パーティクルによるコンタミもシングルナノレベルでの管理が求められるため、デバイスメーカーやファウンドリはもちろん、半導体製造装置メーカー、洗浄液・プロセスガスやそれら供給システムを構成する各種部品メーカーも、より高いレベルでのコンタミ低減に注力しています。
当社が有する計測装置群は、シングルナノパーティクル計測課題への有力なソリューションとしてご利用頂けます。
シングルナノパーティクル計測装置は、世界の大手ファウンドリでの洗浄液中コンタミ管理に活用されています。
また、シングルナノ粒子生成によりコンタミ状況を模擬生成可能な装置は、表面検査装置の性能向上のために活用されています。
その他、半導体用ガスフィルタ/マスフローコントローラー/ガス供給システム用のパーティクル試験装置など、あらゆる
パーティクル計測課題に豊富な製品力で対応いたします。
湿式シングルナノ粒子径分布計測 CMPスラリ、洗浄液
(超純水/IPA/過酸化水素水)［製品一覧］
電気移動度法を用いた噴霧乾燥による湿式計測技術はシングルナノ領域の粒径分布計測を可能とするため、半導体プロセスにおけるソリューションとして近年注目が高まっています。
CMPスラリに要求される粒径均一性をより高い精度で管理するためには、高い精度で粒子径計測技術が不可欠です。
また、洗浄液のコンタミネーションの問題解決は、半導体製造の歩留まり率向上のために大きな役割を果たします。近年、最先端プロセスで使用される超純水/IPA/過酸化水素水などの洗浄液には、シングルナノ領域での計測も求められるようになっており、電気移動度法はその解決法として注目されています。
参考資料
半導体分野での湿式シングルナノパーティクル計測についてウェハ表面検査［製品一覧］
集積回路(IC、LSI)は現在、数ナノ～数十ナノメートルという非常に微細な線幅の回路を有しています。ウェハ製造や回路製作において、パーティクル（＝異物付着）を極限まで低減させることが半導体製造プロセスに求められます。
表面検査装置における精度確認をナノメーターレベルから評価する計測器や、模擬的にナノ粒子を発生する装置などをご紹介致します。
参考資料
製造装置内の発じん測定［製品一覧］
LSI製造プロセス中の製品歩留まりを向上させるためには、製造装置内からの発じんをリアルタイムにかつ、高精度に検出することが一つの対策となります。
そこで、最小1.1 nmからのナノ粒子をリアルタイムにモニタリングできる凝縮粒子カウンター(CPC)を使用することが有効と考えられます。さまざまな種類のCPCラインナップから用途に合ったタイプをご提案いたします。
また、SEMI F70-0320（ガス供給システム※1からのパーティクル発生を測定するための試験方法）に対応したパーティクル計測器をご紹介いたします。
※1）チューブ、フィッティング継手、バルブ、レギュレータ、フィルタ、マスフローコントローラー等
参考資料
半導体ガスフィルタ/半導体マスフローコントローラー［製品一覧］
半導体ガスフィルタ/半導体マスフローコントローラーにおける、SEMIの各規格に対応したパーティクル計測器をご紹介いたします。
・SEMI F38-0699（ユースポイントガスフィルタの効率資格付けを目的とした試験方法）で規定された、半導体用ガスフィルタにおける捕集効率試験に対応した装置
・SEMI E66-0611（半導体製造装置等に使用されるマスフローコントローラーの性能評価試験方法）で規定された、半導体用マスフローコントローラーの性能評価試験に対応した装置
また、計測器に関するご相談や計測法などに関しましてもご相談ください。
参考資料
半導体用ガスフィルタ性能評価に適した機器の紹介(SEMI F38-0699)マスフローコントローラーのパーティクル発生測定に適した粒子計測器の紹介(SEMI E66-0611)
クリーンルーム［製品一覧］
一般的なクリーンルームの清浄度を評価するためのパーティクルカウンターで、クラス1及び2（ISO 14644-1)に対応したモデルから、低コストで小型のパーティクルカウンターまで幅広いラインナップの計測器をご紹介致します。
また、微細化の進歩とともに、より微小なパーティクルへの対策が一層重要となってきております。当社では、一般的な
パーティクルカウンターでは困難な、ナノレベルのパーティクル計測に対応した機器を各種取り扱っております。
